密閉制粒聯(lián)線系統(tǒng)是我公司引進目前國際上的制粒工藝聯(lián)線。系統(tǒng)采用模塊化設(shè)計，使整個制粒工藝過程實現(xiàn)密閉連續(xù)生產(chǎn)。有效規(guī)避了轉(zhuǎn)序過程中的二次人為接觸污染與粉塵的產(chǎn)生，設(shè)計符合制藥工藝及GMP要求。

? 傳統(tǒng)的制粒工藝是每臺設(shè)備設(shè)置在單獨的凈化間內(nèi)，這樣就存在物料在多個凈化間內(nèi)來回轉(zhuǎn)序，無法避免存在人為二次污染現(xiàn)象。而CCS制粒模塊系統(tǒng)采用密閉輸送的方式，保證了制粒工藝在同一個凈化間內(nèi)完成。杜絕了人為二次污染，使制粒工藝更加科學(xué)與合理，并減少了設(shè)備占用空間，使生產(chǎn)工藝更加符合GMP要求；

? CCS制粒模塊系統(tǒng)充分地考慮了系統(tǒng)之間設(shè)備的配套性，可根據(jù)用戶實際產(chǎn)量及劑型配套相應(yīng)型號的設(shè)備，使上下工序產(chǎn)量達到合理配置，保證生產(chǎn)的連續(xù)性與穩(wěn)定性；

? 通過采用中央集成控制系統(tǒng)，可以對濕法制粒，沸騰干燥制粒的工藝數(shù)據(jù)分別以網(wǎng)絡(luò)形式采集與編制。在一個控制中心控制多臺設(shè)備的參數(shù)設(shè)定與監(jiān)控，使生產(chǎn)的工藝過程自動化，并保證工藝的穩(wěn)定性，同時在設(shè)備的防爆要求方面具有明顯優(yōu)勢；

? 該系統(tǒng)模塊使?jié)穹ㄖ屏C與沸騰干燥制粒機的各自設(shè)備優(yōu)點得到充分的體現(xiàn)。同時采用濕法整粒機與干法整粒機與系統(tǒng)結(jié)合可以保證較高的制粒成品率。也可用該系統(tǒng)解決中成藥流浸膏制粒的難題；

? 該系統(tǒng)的真空上料裝置，轉(zhuǎn)序提升裝置具有較高的自動化生產(chǎn)條件，降低了勞動強度與粉塵污染；

? 該系統(tǒng)在多點設(shè)置了全自動在位清洗噴頭，使CIP在位清洗得到了可靠保證。

　　1.以往的制粒工藝過程是組成聯(lián)線的設(shè)備被單獨放置于各功能房間內(nèi)使用，這樣就存在物料在多個功能房間內(nèi)往復(fù)轉(zhuǎn)序，不可避免存在二次人為接觸污染。而制粒聯(lián)線系統(tǒng)的誕生則有效的解決了這一難題。制粒聯(lián)動線采用密閉的輸送方式，制粒工藝所需設(shè)備都集中在一個功能房間內(nèi)，保證了制粒過程在一個功能房間內(nèi)完成。有效杜絕了二次人為接觸污染與粉塵的產(chǎn)生，減少設(shè)備占用空間，符合GMP要求。

　　2.本套系統(tǒng)采用真空上料裝置或提升轉(zhuǎn)運裝置，具有高度的自動化生產(chǎn)條件。避免人為接觸，大幅度降低了人工勞動強度。

　　3.本套系統(tǒng)設(shè)置了多點全自動在線清洗噴頭，大限度實現(xiàn)CIP在位清洗。

　　4.制粒聯(lián)線系統(tǒng)充分考慮了系統(tǒng)設(shè)備之間的匹配性，可根據(jù)用戶實際產(chǎn)量需求及劑型選擇相應(yīng)型號的設(shè)備，使上下工序的設(shè)備產(chǎn)能達到合理配比，保證生產(chǎn)過程的連續(xù)性與穩(wěn)定性。該聯(lián)線系統(tǒng)使?jié)穹ㄖ屏C與沸騰干燥機的各自優(yōu)點得以充分體現(xiàn)。同時采用濕法整粒與干整粒和系統(tǒng)配套使用，可以大限度的提高制粒收得率。大限度發(fā)揮聯(lián)線設(shè)備的整體經(jīng)濟效益。

　　5.通過采用CIMC控制系統(tǒng)，可以實現(xiàn)對濕法制粒，沸騰干燥的工藝數(shù)據(jù)以網(wǎng)絡(luò)形式采集與編制。在一個控制中心實現(xiàn)多臺設(shè)備的工藝參數(shù)設(shè)定與監(jiān)控。使生產(chǎn)過程完全實現(xiàn)自動化?？梢员ＷC工藝參數(shù)的穩(wěn)定性，并實現(xiàn)穩(wěn)定工藝的重現(xiàn)性。同時可大幅度提升設(shè)備在防爆方面的優(yōu)勢。